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德國Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) PE-ALD

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產(chǎn)品型號PE-ALD

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地

聯(lián)系方式：林經(jīng)理查看聯(lián)系方式

更新時間：2023-06-16 19:05:43瀏覽次數(shù)：239次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：420條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

德國Sentech等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)PE-ALDSENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺PEALD設(shè)備

詳細(xì)介紹

德國Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) PE-ALD



SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺PEALD設(shè)備。新的ALD設(shè)備應(yīng)用SENTECH橢偏儀，使熱輔助和等離子輔助的操作和沉積過程都能得到監(jiān)控。



SENTECH使用激光橢偏儀和寬量程分光橢偏儀的前沿技術(shù)——超快在線橢偏儀來監(jiān)控逐層膜生長。


臺PEALD設(shè)備已經(jīng)在布倫瑞克科技大學(xué)（TU Braunschweig）投入使用，用于生長超高均勻性和密度的氧化膜，如Al2O3和ZnO等。



在Al2O3沉積過程中，三甲基鋁（TMA）等離子產(chǎn)生的氧原子反應(yīng)，襯底溫度為80到200℃。PEALD薄膜厚度均勻性高、折射率變化小的特點。



下圖是ALD與PEALD的沉積結(jié)果對比



關(guān)鍵詞：橢偏儀

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