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批量晶圓處理等離子系統(tǒng)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

批量晶圓處理等離子系統(tǒng)PVA TePla 用于批量處理的等離子系統(tǒng)都遵循相同的等離子生成原理:直接高頻激發(fā)耦合真空室中的大氣一側(cè)。進(jìn)氣口位于腔室的一側(cè),真空抽氣口位于腔室的另一側(cè)。這種腔室的幾何結(jié)構(gòu)使得工藝結(jié)果十分一致。批量晶圓處理系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì),其模塊化控制系統(tǒng)使用一代處理器,基于 Linux 平臺(tái)作為操作系統(tǒng),以及圖形用戶界面 (GUI)。因此,可支持手動(dòng)和全自動(dòng)控制過(guò)程,并且通過(guò) M......

詳細(xì)介紹

批量晶圓處理等離子系統(tǒng)

PVA TePla 用于批量處理的等離子系統(tǒng)都遵循相同的等離子生成原理:直接高頻激發(fā)耦合真空室中的大氣一側(cè)。進(jìn)氣口位于腔室的一側(cè),真空抽氣口位于腔室的另一側(cè)。這種腔室的幾何結(jié)構(gòu)使得工藝結(jié)果十分一致。

批量晶圓處理系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計(jì),其模塊化控制系統(tǒng)使用一代處理器,基于 Linux 平臺(tái)作為操作系統(tǒng),以及圖形用戶界面 (GUI)。因此,可支持手動(dòng)和全自動(dòng)控制過(guò)程,并且通過(guò) MFC 控制過(guò)程氣體。在此過(guò)程中,所有參數(shù)都被寫(xiě)入程序并存儲(chǔ)在數(shù)據(jù)庫(kù)中。與此同時(shí),當(dāng)前的壓力值、氣體流量值、輸出值等都顯示在顯示屏上,如果當(dāng)前值偏離設(shè)定值,則會(huì)觸發(fā)相應(yīng)的警報(bào)。

批量晶圓處理系統(tǒng)

GIGAbatch 310M等離子系統(tǒng)

GIGAbatch 310M等離子系統(tǒng) 是 GIGAbatch 產(chǎn)品系列中的入門級(jí)型號(hào)。作為最小的系統(tǒng),GIGAbatch 310M具有較高的性價(jià)比,憑借的等離子技術(shù)以及經(jīng)濟(jì)實(shí)惠等優(yōu)點(diǎn),它是實(shí)驗(yàn)室和大學(xué)的理想之選。然而,即使是基礎(chǔ)版本,它也可用于使用 MFC 氣體管道和 600 W 發(fā)生器,執(zhí)行手動(dòng)和自動(dòng)等離子處理。

  • 基礎(chǔ)版本的桌面型;為第二個(gè)氣體管道提供空間
  • 腔室最多可容納 25 片直徑為 150 毫米的晶圓,可以使用石英舟批量處理,或使用帶有特殊裝載裝置進(jìn)行單片處理
  • 各種個(gè)性化配置的配件

具有特殊密封材料的配置,帶冷卻板和循環(huán)冷卻器的腔室可用于從晶圓上去除 SU-8。

GIGAbatch 360/380M等離子系統(tǒng)

GIGAbatch 360M 和 380M等離子系統(tǒng),是專為滿足低要求的小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)。 GIGAbatch 360M版本有一個(gè)直徑為 245 mm的工藝室,最多可容納 50 片直徑為 150 mm的晶圓。而GIGAbatch 380M版本的腔室內(nèi)徑為 300 mm,最多可容納 25 片直徑為 200 mm 的晶圓。

該系統(tǒng)的基礎(chǔ)版本是一款落地式設(shè)備,帶有噴涂面板、可調(diào)節(jié)支腳和腳輪。它配有一個(gè)輸出功率為 1000 W 的發(fā)生器、兩個(gè) MFC 氣體管道、晶圓溫度監(jiān)控和一個(gè)終點(diǎn)偵測(cè)系統(tǒng)。此外,它還包括一個(gè)固定晶圓和基板的裝置,可安裝在腔體室內(nèi)門上,并可根據(jù)客戶具體要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。

也可按客戶需求提供:

  • 過(guò)程壓力 (DSC) 的主動(dòng)控制裝置
  • 法拉第籠
  • 額外的氣體管道
  • 不同尺寸基板或晶圓的裝載裝置
  • 陶瓷工藝室
  • 使用含氟工藝氣體運(yùn)行的特殊密封件

GIGAbatch 360/380P等離子系統(tǒng)

GIGAbatch 360P 和 380P等離子系統(tǒng),可滿足半導(dǎo)體行業(yè)苛刻的要求,該系統(tǒng)使用相同的腔室?guī)缀谓Y(jié)構(gòu)。 GIGAbatch 360P型號(hào)的腔室直徑為 245 mm,最多可容納 50 片直徑為 150 mm 的晶圓。而GIGAbatch 380P 型號(hào)的腔室內(nèi)徑為 300 mm,可容納 25 片直徑為 200 mm 的晶圓。與 M 系列系統(tǒng)的不同之處在于 P 系統(tǒng)滿足 100 級(jí)潔凈室兼容性的要求

特別注意生產(chǎn)線對(duì)避免顆粒物和金屬污染的要求。

該系統(tǒng)基礎(chǔ)版本包括:

  • 帶有不銹鋼鑲板、可調(diào)節(jié)腳和腳輪的落地式設(shè)備
  • 帶有一個(gè)輸出功率為 1000 W 的發(fā)生器、兩個(gè)帶波紋管閥的氣體管道和 MFC
  • 具有晶圓溫度監(jiān)控和終點(diǎn)偵測(cè)系統(tǒng)

工藝室門具有電機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置,可配備用于固定各種尺寸的石英舟的裝置,石英舟安裝在腔室門內(nèi)部,并根據(jù)客戶具體要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。

也可按要求提供:

  • 過(guò)程壓力 (DSC) 的主動(dòng)控制裝置
  • 法拉第籠
  • 不同尺寸基板或晶圓的裝載裝置
  • 陶瓷工藝室
  • 使用含氟工藝氣體運(yùn)行的特殊密封件

P 型號(hào)可配備自動(dòng)裝載裝置,可獨(dú)立從晶圓盒中裝載晶圓。

關(guān)鍵詞:冷卻器

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